2025年4月21日，據2025氣博會消息，和遠氣體新獲得一項發明專利授權，專利名稱為“一種制備半導體用超純氨的裝置及工藝”，專利申請號為CN202210167909.0，授權日期為2025年4月4日。

該專利的裝置包括依次連通的汽化單元、預處理單元（用于脫硫脫水）、脫輕單元、脫重單元、后純化單元（用于除水、氧和金屬雜質），以及供熱系統（為汽化單元和精餾系統提供熱源）。該裝置能夠高效去除水、氧及金屬等雜質，生產出超純氨。此外，供熱系統介質既能提供熱源，又能提供冷源，實現連續化節能生產。高低沸點組分的脫除還可以作為工業氨回收利用，且無廢氣排放。

今年以來，和遠氣體已獲得5項專利授權，較去年同期增長400%。結合公司2024年上半年的財務數據，其在研發方面投入了2364.41萬元，同比增長25.4%。這表明和遠氣體在技術創新和研發投入方面取得了顯著成效，為公司的長期發展提供了有力支持。