主營(yíng)行業(yè)：公司開(kāi)發(fā)的主要設(shè)備有：工模具硬質(zhì)涂層鍍膜設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備、多弧離子鍍膜設(shè)備、磁控濺射復(fù)合多弧離子鍍鍍膜設(shè)備、連續(xù)線式磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線、光學(xué)鍍膜設(shè)備、CVD和PECVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備、ICP刻蝕設(shè)備和ALD原子層沉積、（超）高真空系統(tǒng)、多工位高真空排氣臺(tái)、高真空分子泵機(jī)組、多工位檢漏系統(tǒng)、真空腔體及管道、高材料利用率（材料利用率超過(guò)40-60%以上）矩形平面磁控濺射陰極、產(chǎn)業(yè)用旋轉(zhuǎn)磁控濺射陰極（材料利用率達(dá)到80%以上）、線性離子源、多弧陰極、多弧過(guò)濾陰極和多弧旋轉(zhuǎn)柱狀陰極、真空零配件閥門、檢漏服
公司類型：個(gè)體經(jīng)營(yíng)
注冊(cè)年份：2013
上海福宜真空設(shè)備有限公司，是致力于高端真空鍍膜設(shè)備、復(fù)雜鍍膜工藝和真空設(shè)備核心部件的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。 公司創(chuàng)始人和核心技術(shù)團(tuán)隊(duì)，致力于復(fù)雜鍍膜工藝的開(kāi)發(fā)，鍍膜工藝和設(shè)備集成的理論和實(shí)際相結(jié)合是公司發(fā)展的主要特色。相對(duì)于整機(jī)設(shè)備和鍍膜工藝技術(shù)，國(guó)內(nèi)核心部件的研究和制備技術(shù)水平與國(guó)外差距更大。公司投入超過(guò)1000萬(wàn)元，重點(diǎn)開(kāi)發(fā)的核心部件主要有：高材料利用率（材料利用率超過(guò)40-60%以上）矩形平面磁控濺射陰極、產(chǎn)業(yè)用旋轉(zhuǎn)磁控濺射陰極（材料利用率達(dá)到80%以上）、線性離子源、多弧陰極、多弧過(guò)濾陰極和多弧旋轉(zhuǎn)柱狀陰極等。通過(guò)核心部件的研發(fā)，提升了公司整機(jī)設(shè)備的技術(shù)水平、性價(jià)比和核心競(jìng)爭(zhēng)力，主要技術(shù)達(dá)到國(guó)際同期最好水平。